沈天慧

沈天慧人物生平

1923年4月27日，沈天慧出生于浙江嘉善。

1945年，进入上海大同大学化工系就读。

1949年，从上海大同大学化工系毕业，后考取中央研究院（现中国科学院）上海化学研究所的研究生。

1954年，被选派到中科院沈阳金属研究所工作。

1957年，被派往苏联莫斯科冶金研究所进修半导体硅和化合物半导体的研制。

1959年，沈天慧回中国后，在中国科学院长春应用化学研究所工作。

1966年，调到中科院156工程处（北京）。

1970年，迁至陕西临潼县航天工业部771研究所。

1980年，当选为中国科学院学部委员（院士）。

1987年，调入上海交通大学信息存储研究中心，从事磁头磁盘的研制工作。

2011年1月2日，在上海逝世，享年88岁。

沈天慧主要成就

科研综述

沈天慧参加了包头稀土铁矿以及钼矿的分析工作。开展了用三氯氢硅法制备超纯硅的研究工作。1966年—1986年从事半导体材料及航天用大规模集成电路的研制。1978年成功地用等平面N沟硅栅MOS工艺，研制出大规模集成电路数种。1987年后，从事磁头磁盘及电磁型微马达的研制工作，研制出直径为2mm的微马达。

学术论著

沈天慧最早论文发表是1988年在微电子学与计算机（期刊）上的VLSI工艺技术——五、超微细加工一文。截至2004年在微电子学与计算机、微细加工技术、上海交通大学学报等期刊上共发文14篇，其部分论著如下：

[1]沈天慧.化学在集成电路中的作用[J].化学通报,1984（10）:3-4.

[2]汪师俊,蔡琪玉,沈天慧.光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——（Ⅰ）光化学气相淀积氧化硅的工艺研究[J].微电子学与计算机,1993（02）:46-48.

[3]汪师俊,蔡琪玉,沈天慧.光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——Ⅱ光化学气相淀积氮化硅膜的性质[J].微电子学与计算机,1993（03）:47-51.

[4]汪师俊,蔡琪玉,沈天慧.光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——（Ⅲ）光CVD氮化硅薄膜应用于提高器件可靠性[J].微电子学与计算机,1993（09）:3-5.

[5]沈天慧,李积和,何莲萍,陈青松,汪师俊.用多晶硅吸杂和SiO_2背封工艺提高硅片质量[J].微电子学与计算机,1997（02）:17-19.

[6]镍钛合金形状记忆薄膜的化学刻蚀[J]. 丁桂甫,徐东,赵小林,张寿柏,蔡炳初,沈天慧. 微细加工技术. 1999（03）.

[7]微机电系统中的材料和加工[J]. 张寿柏,丁桂甫,郭晓芸,沈天慧. 上海有色金属. 2000（03）.

[8]CVD金刚石薄膜RIE掩模技术研究[J]. 丁桂甫,俞爱斌,赵小林,姚翔,沈天慧. 微细加工技术. 2001（03）.

[9]电沉积纳米锌层的研究[J]. 曹莹,沈天慧,姚锦元,丁桂甫. 电化学. 2004（01）.

科研获奖

截至2011年，沈天慧从事科研工作获国家级奖励3项，部级奖励4项。

时间

荣誉表彰

1980年

中国科学院学部委员（院士）

2006年

徐光启科技荣誉奖章

2009年

新中国60年上海百名杰出女教师

2009年

新中国60年上海百位突出贡献女性

沈天慧人物评价

“沈天慧院士以一生的行动，实践着自己对党、对祖国、对人民诚挚的爱，她的高尚品德值得学习。”（上海交通大学原党委书记马德秀评）

“她（沈天慧）对于名利以及物质生活一向淡泊无求，不喜欢麻烦别人，正是一位女科学家对待人生、亊业的态度。”（嘉善文史通讯员管玲缇评）